In unseren Vakuumanlagen nutzen wir verschiedene Verfahren zur Oberflächenveränderung aus. Wir können alles abscheiden, von Schichtdicke null bis etwa 10 Mikrometer, und alles ätzen, von einigen Nanometern bis zu 100 Mikrometer, um Löcher durch einen gedünnten Wafer zu bohren. Wir strukturieren so hartnäckige Materialien wie Siliciumcarbid, glatt oder gezielt nanorauh, genauso wie wir Platin rückstandsfrei ätzen können, entweder isotrop oder anisotrop, was die Domäne des Reaktiven Ionenätzens (RIE) ist. |
Unsere Methoden der Oberflächenanalyse reichen von der optischen Mikroskopie über mechanische Abtastung bis zur erhöhten Auflösung durch die Elektronenmikroskopie (mit EDX Option, womit auch die Stöchiometrie ermittelt werden kann). Ein Highlight ist die elektrochemische Impedanz-Spektroskopie, mit der die Porosität sehr dünner Schichten von deutlich unter 1 Mikrometern Dicke quantifiziert werden kann.
Unsere Systeme sind
- antibakteriell beschichtete Katheter und
- antistenotisch wirkende Stents,
- photonische Kristalle und
- UV-stabile superhydrophobe Beschichtungen auf dreidimensionalen Substraten,
- Plasma-Anlagen.
Beim ersten System arbeiten wir zusammen mit den Firmen PPS in Rosenheim und Urokink in Halberstadt sowie dem Universitäts-Klinikum Schleswig-Holstein, beim zweiten mit der Firma PPS und dem Deutschen Herzzentrum in der Lazarettstraße, beim dritten im Walter Schottky Institut der TU München in Garching, und beim vierten mit den Firmen HS-Plasma Tec in Hainburg am Main und PPS in Rosenheim, mit denen wir auch auf dem Sektor des Maschinenbaus kooperieren, der Verbesserung von (PE)CVD- und Ionenstrahl-Anlagen, zusammen mit Ivo Rangelow, dem Direktor des Instituts für mikro- und nanoelektron. Systeme der TU Ilmenau.
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